Politecnico di Milano

Descrizione

• Spin coater per la deposizione di film sottili
• Sputter per la deposizione di metalli nobili e per trattamento al plasma
• Cappa chimica
• Bagno ad ultrasuoni
• Hot plate e agitatore magnetico
• Microscopio ottico in riflessione darkfield/brightfield/differential image contrast
• Microscopio AFM (contact and non contact mode)
• Camera climatica per effettuare misure da -50 °C a 200 °C
• Impulsatore (impulsi fino a 5 ns)
• Oscilloscopi digitali con banda fino a 500MHz
• Alimentatori
• Pompe turbomolecolari
• LCR meter
• Spettrofotometro (200nm-1micron)
• Semiconductor parameter analyzer
• Sistema basato su sorgenti LED impulsate per la caratterizzazione di fotorivelatori

Fig. 1. Setup sperimentale per la misura delle proprietà di fotoconducibilità di materiali organici in alto vuoto
Fig. 2. Ispezione di campioni tramite microscopio ottico
Fig. 3. Topografia di un film sottile organico effettuata tramite Microscopio AFM

Copyright © Ing. Giorgio Uccellini 2009